LAB 1200 డిగ్రీ మల్టీ హీటింగ్ జోన్‌లు వాక్యూమ్ డిపాజిట్ ఫర్నేస్/గ్రాఫేన్ cvd మెషిన్ రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ

The parameters for the LAB 1200-degree multi heating zones vacuum deposit furnace and chemical vapour deposition of graphene cvd machine can vary depending on several factors, such as the specific specifications of the machine, the operating conditions, and the desired materials used in the production process.

(LAB 1200 డిగ్రీ మల్టీ హీటింగ్ జోన్‌లు వాక్యూమ్ డిపాజిట్ ఫర్నేస్/గ్రాఫేన్ cvd మెషిన్ రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ)

Overview of LAB 1200 డిగ్రీ మల్టీ హీటింగ్ జోన్‌లు వాక్యూమ్ డిపాజిట్ ఫర్నేస్/గ్రాఫేన్ cvd మెషిన్ రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ

గ్రాఫేన్ అనేది షట్కోణ లాటిస్‌లో అమర్చబడిన కార్బన్ అణువుల యొక్క ఒకే పొర, విశేషమైన లక్షణాలతో ద్విమితీయ పదార్థాన్ని ఏర్పరుస్తుంది. లో కనుగొనబడింది 2004, అప్పటి నుండి ఇది దాని ప్రత్యేక బలం కలయిక కారణంగా శాస్త్రీయ సమాజాన్ని మరియు పరిశ్రమను ఒకే విధంగా ఆకర్షించింది, వాహకత, మరియు వశ్యత. గ్రాఫేన్ తప్పనిసరిగా సింగిల్, గ్రాఫైట్ యొక్క ఫ్లాట్ షీట్, పెన్సిల్ సీసంలో కనిపించే పదార్థం, కానీ ఒకే పరమాణు పొరలో వేరుచేయబడినప్పుడు దాని లక్షణాలు చాలా భిన్నంగా ఉంటాయి.

Features of LAB 1200 డిగ్రీ మల్టీ హీటింగ్ జోన్‌లు వాక్యూమ్ డిపాజిట్ ఫర్నేస్/గ్రాఫేన్ cvd మెషిన్ రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ

సరిపోలని బలం: గ్రాఫేన్ అత్యంత బలమైన పదార్థం, చుట్టూ తన్యత బలంతో 130 గిగాపాస్కల్స్, పైగా కారకం ద్వారా ఉక్కును అధిగమించడం 100.

ఎక్స్‌ట్రీమ్ ఫ్లెక్సిబిలిటీ: దాని బలం ఉన్నప్పటికీ, గ్రాఫేన్ చాలా అనువైనది మరియు వంగి ఉంటుంది, మెలికలు తిరిగింది, లేదా విరగకుండా గాయమైంది.

అసాధారణమైన విద్యుత్ వాహకత: ఇది అనూహ్యంగా విద్యుత్తును నిర్వహిస్తుంది, కాంతి వేగాన్ని సమీపించే వేగంతో కదులుతున్న ఎలక్ట్రాన్లతో, ఎలక్ట్రానిక్స్‌కు అనువైనదిగా చేస్తుంది.

ఉష్ణ వాహకత: గ్రాఫేన్ కూడా ఒక అద్భుతమైన థర్మల్ కండక్టర్, వేడిని సమర్థవంతంగా వెదజల్లుతుంది, ఉష్ణ నిర్వహణ అనువర్తనాల్లో ఉపయోగపడుతుంది.

పారదర్శకత: ఇది దాదాపు పారదర్శకంగా ఉంటుంది, గ్రహించడం మాత్రమే 2.3% కాంతి యొక్క, ఏది, దాని వాహకతతో కలిసి, డిస్ప్లేలలోని పారదర్శక ఎలక్ట్రోడ్‌లకు అనుకూలంగా ఉండేలా చేస్తుంది.

రసాయనికంగా జడమైనది: గ్రాఫేన్ తుప్పుకు అధిక నిరోధకతను కలిగి ఉంటుంది మరియు అనేక రకాల రసాయన పరిస్థితులలో స్థిరంగా ఉంటుంది.

(LAB 1200 డిగ్రీ మల్టీ హీటింగ్ జోన్‌లు వాక్యూమ్ డిపాజిట్ ఫర్నేస్/గ్రాఫేన్ cvd మెషిన్ రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ)

Parameter of LAB 1200 డిగ్రీ మల్టీ హీటింగ్ జోన్‌లు వాక్యూమ్ డిపాజిట్ ఫర్నేస్/గ్రాఫేన్ cvd మెషిన్ రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ

The parameters for the LAB 1200-degree multi heating zones vacuum deposit furnace and chemical vapour deposition of graphene cvd machine can vary depending on several factors, such as the specific specifications of the machine, the operating conditions, and the desired materials used in the production process.

ఉదాహరణకు, if you have access to a laboratory with different types of gases that can be mixed together during the application process, you may need to consider the type of gas that will be used and how it ised. అదేవిధంగా, the type of material that needs to be deposited (graphene or any other chemically reactive substance) and the intended application (ఉదా, manufacturing a plastic part) may also affect the optimal parameters of the experiment.

అదనంగా, the operating conditions, such as the temperature, ఒత్తిడి, and flow rate, will also play a role in determining the optimal parameters. You should also consider the power source and the initial size and capacity of the vacuum deposit furnace to ensure that it can handle the required volume of materials being deposited.

మొత్తంమీద, it’s important to thoroughly plan the experimental design before performing any, including choosing the appropriate parameters for the lab and the type of samples being tested. అలా చేయడం ద్వారా, you can ensure that your results are accurate and reliable.

(LAB 1200 డిగ్రీ మల్టీ హీటింగ్ జోన్‌లు వాక్యూమ్ డిపాజిట్ ఫర్నేస్/గ్రాఫేన్ cvd మెషిన్ రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ)

Applications of LAB 1200 డిగ్రీ మల్టీ హీటింగ్ జోన్‌లు వాక్యూమ్ డిపాజిట్ ఫర్నేస్/గ్రాఫేన్ cvd మెషిన్ రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ

ఎలక్ట్రానిక్స్: ట్రాన్సిస్టర్లలో, టచ్‌స్క్రీన్‌లు, మరియు దాని వాహకత మరియు వశ్యత కారణంగా సౌకర్యవంతమైన ఎలక్ట్రానిక్స్, పరికర రూపకల్పనను విప్లవాత్మకంగా మార్చవచ్చు.

శక్తి నిల్వ: బ్యాటరీలు మరియు సూపర్ కెపాసిటర్లలో ఎలక్ట్రోడ్లుగా, శక్తి నిల్వ సామర్థ్యం మరియు ఛార్జింగ్ రేట్లు మెరుగుపరచడం.

సెన్సార్లు: అధిక సున్నితత్వం మరియు వాహకత గ్రాఫేన్‌ను రసాయన మరియు జీవ సెన్సార్‌లకు అనువైనదిగా చేస్తాయి.

మిశ్రమాలు: ప్లాస్టిక్స్ వంటి ఉపబల పదార్థాలు, లోహాలు, మరియు బలం మరియు వాహకతను పెంచడానికి కాంక్రీటు.

నీటి వడపోత: దాని పరమాణుపరంగా సన్నని నిర్మాణం కలుషితాలను సమర్థవంతంగా వడకట్టేలా చేస్తుంది, లవణాలతో సహా, వైరస్లు, మరియు బాక్టీరియా.

మందు: సంభావ్య ఉపయోగాలలో ఔషధ పంపిణీ వ్యవస్థలు మరియు బయో-సెన్సర్‌లు దాని జీవ అనుకూలత మరియు ప్రత్యేక లక్షణాల కారణంగా ఉన్నాయి.

కంపెనీ ప్రొఫైల్

గ్రాఫైట్-కార్ప్ ఒక విశ్వసనీయ ప్రపంచ రసాయన పదార్థాల సరఫరాదారు & సూపర్ హై-క్వాలిటీ గ్రాఫైట్ పౌడర్ మరియు గ్రాఫేన్ ఉత్పత్తులను అందించడంలో 12 ఏళ్ల అనుభవం ఉన్న తయారీదారు.

కంపెనీకి వృత్తిపరమైన సాంకేతిక విభాగం మరియు నాణ్యత పర్యవేక్షణ విభాగం ఉన్నాయి, బాగా అమర్చబడిన ప్రయోగశాల, మరియు అధునాతన టెస్టింగ్ పరికరాలు మరియు అమ్మకాల తర్వాత కస్టమర్ సర్వీస్ సెంటర్‌తో అమర్చబడి ఉంటుంది.

మీరు అధిక-నాణ్యత గ్రాఫైట్ పౌడర్ మరియు సంబంధిత ఉత్పత్తుల కోసం చూస్తున్నట్లయితే, దయచేసి మమ్మల్ని సంప్రదించడానికి సంకోచించకండి లేదా విచారణను పంపడానికి అవసరమైన ఉత్పత్తులపై క్లిక్ చేయండి.

చెల్లింపు పద్ధతులు

L/C, T/T, వెస్ట్రన్ యూనియన్, పేపాల్, క్రెడిట్ కార్డ్ మొదలైనవి.

రవాణా

ఇది సముద్రం ద్వారా రవాణా చేయబడవచ్చు, గాలి ద్వారా, లేదా తిరిగి చెల్లింపు రసీదును వెంటనే బహిర్గతం చేయడం ద్వారా.

FAQs of LAB 1200 డిగ్రీ మల్టీ హీటింగ్ జోన్‌లు వాక్యూమ్ డిపాజిట్ ఫర్నేస్/గ్రాఫేన్ cvd మెషిన్ రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ

ప్ర: Is LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine safe for the environment and human health?
ఎ: గ్రాఫేన్ యొక్క పర్యావరణ మరియు ఆరోగ్య ప్రభావాలపై పరిశోధన కొనసాగుతోంది. గ్రాఫేన్ సాపేక్షంగా జడమైనదిగా పరిగణించబడుతుంది, గ్రాఫేన్ ఆక్సైడ్ మరియు ఇతర ఉత్పన్నాల సంభావ్య విషపూరితం గురించి ఆందోళనలు ఉన్నాయి, ముఖ్యంగా జల పర్యావరణ వ్యవస్థలలో.

ప్ర: How is LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine produced?
ఎ: గ్రాఫేన్‌ను అనేక పద్ధతుల ద్వారా ఉత్పత్తి చేయవచ్చు, మెకానికల్ ఎక్స్‌ఫోలియేషన్‌తో సహా (అంటుకునే టేప్‌ని ఉపయోగించి గ్రాఫైట్ పొరలను తొక్కడం), రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (CVD), మరియు గ్రాఫేన్ ఆక్సైడ్ రసాయన తగ్గింపు.

ప్ర: Why is LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine not yet widely used in commercial products?
ఎ: అధిక-నాణ్యత గల గ్రాఫేన్‌ను కొలవదగిన మరియు తక్కువ ఖర్చుతో కూడిన పద్ధతిలో ఉత్పత్తి చేయడంలో సవాళ్లు దాని విస్తృత స్వీకరణకు ఆటంకం కలిగించాయి. అదనంగా, ఇప్పటికే ఉన్న ఉత్పాదక ప్రక్రియలలో గ్రాఫేన్‌ను ఏకీకృతం చేయడానికి మరింత సాంకేతిక పురోగతులు అవసరం.

ప్ర: Can LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine be used to make stronger and lighter materials?
ఎ: ఖచ్చితంగా, మిశ్రమ పదార్థాలకు గ్రాఫేన్ జోడించడం బరువును తగ్గించేటప్పుడు వాటి బలాన్ని మరియు దృఢత్వాన్ని గణనీయంగా మెరుగుపరుస్తుంది, వాటిని ఏరోస్పేస్‌కు అనువైనదిగా చేస్తుంది, ఆటోమోటివ్, మరియు క్రీడా పరికరాలు.

ప్ర: Does LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine have any limitations?
ఎ: గ్రాఫేన్ అత్యుత్తమ లక్షణాలను కలిగి ఉండగా, దాని పూర్తి సామర్థ్యాన్ని వినియోగించుకోవడంలో సవాళ్లు మిగిలి ఉన్నాయి, అధిక-నాణ్యత సామూహిక ఉత్పత్తిని సాధించడం వంటివి, మిశ్రమాలలో పునఃస్థాపనకు దాని ధోరణిని నిర్వహించడం, మరియు సంభావ్య ఆరోగ్యం మరియు పర్యావరణ సమస్యలను పరిష్కరించడం.

(LAB 1200 డిగ్రీ మల్టీ హీటింగ్ జోన్‌లు వాక్యూమ్ డిపాజిట్ ఫర్నేస్/గ్రాఫేన్ cvd మెషిన్ రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ)

(LAB 1200 డిగ్రీ మల్టీ హీటింగ్ జోన్‌లు వాక్యూమ్ డిపాజిట్ ఫర్నేస్/గ్రాఫేన్ cvd మెషిన్ రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ)