LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine

The parameters for the LAB 1200-degree multi heating zones vacuum deposit furnace and chemical vapour deposition of graphene cvd machine can vary depending on several factors, such as the specific specifications of the machine, the operating conditions, and the desired materials used in the production process.

(LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine)

Overview of LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine

ग्राफिन हेक्सागोनल जालीमा व्यवस्थित कार्बन परमाणुहरूको एकल तह हो, उल्लेखनीय गुणहरूको साथ दुई-आयामी सामग्री गठन. मा पत्ता लाग्यो 2004, यसले त्यसबेलादेखि वैज्ञानिक समुदाय र उद्योगलाई आफ्नो शक्तिको अद्वितीय संयोजनको कारण मोहित गरेको छ, चालकता, र लचकता. ग्राफिन अनिवार्य रूपमा एकल हो, ग्रेफाइट को समतल पाना, पेन्सिल सिसामा पाइने सामग्री, तर एकल परमाणु तहमा पृथक गर्दा यसको गुणहरू धेरै फरक हुन्छन्.

Features of LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine

अतुलनीय शक्ति: ग्राफिन सबैभन्दा बलियो ज्ञात सामग्री हो, वरिपरिको तन्य शक्ति संग 130 gigapascals, ओभरको कारकले स्टीललाई उछिनेर 100.

चरम लचिलोपन: यसको बल को बावजूद, ग्राफिन अत्यधिक लचिलो छ र झुकाउन सकिन्छ, घुमाइएको, वा ब्रेक नगरी घुमाइएको.

असाधारण विद्युत चालकता: यसले असाधारण रूपमा बिजुली सञ्चालन गर्दछ, प्रकाशको गतिमा पुग्ने वेगमा इलेक्ट्रोनहरू सर्दै, यसलाई इलेक्ट्रोनिक्सको लागि आदर्श बनाउँदै.

थर्मल चालकता: ग्राफिन पनि उत्कृष्ट थर्मल कन्डक्टर हो, कुशलतापूर्वक गर्मी फैलाउने, गर्मी व्यवस्थापन अनुप्रयोगहरूमा उपयोगी.

पारदर्शिता: यो लगभग पारदर्शी छ, अवशोषित मात्र 2.3% प्रकाश को, जुन, यसको चालकता संग जोडिएको, डिस्प्लेमा पारदर्शी इलेक्ट्रोडका लागि उपयुक्त बनाउँछ.

रासायनिक निष्क्रिय: ग्राफिन जंगको लागि अत्यधिक प्रतिरोधी र रासायनिक अवस्थाहरूको विस्तृत दायरा अन्तर्गत स्थिर छ.

(LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine)

Parameter of LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine

The parameters for the LAB 1200-degree multi heating zones vacuum deposit furnace and chemical vapour deposition of graphene cvd machine can vary depending on several factors, such as the specific specifications of the machine, the operating conditions, and the desired materials used in the production process.

उदाहरणका लागि, if you have access to a laboratory with different types of gases that can be mixed together during the application process, you may need to consider the type of gas that will be used and how it ised. Similarly, the type of material that needs to be deposited (graphene or any other chemically reactive substance) and the intended application (जस्तै, manufacturing a plastic part) may also affect the optimal parameters of the experiment.

In addition, the operating conditions, such as the temperature, दबाब, and flow rate, will also play a role in determining the optimal parameters. You should also consider the power source and the initial size and capacity of the vacuum deposit furnace to ensure that it can handle the required volume of materials being deposited.

समग्रमा, it’s important to thoroughly plan the experimental design before performing any, including choosing the appropriate parameters for the lab and the type of samples being tested. By doing so, you can ensure that your results are accurate and reliable.

(LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine)

Applications of LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine

इलेक्ट्रोनिक्स: ट्रान्जिस्टरहरूमा, टचस्क्रिन, र यसको चालकता र लचिलोपनको कारणले लचिलो इलेक्ट्रोनिक्स, सम्भावित रूपमा उपकरण डिजाइनमा क्रान्तिकारी.

ऊर्जा भण्डारण: ब्याट्री र सुपर क्यापेसिटरहरूमा इलेक्ट्रोडको रूपमा, ऊर्जा भण्डारण क्षमता र चार्ज दरहरू सुधार गर्दै.

सेन्सरहरू: उच्च संवेदनशीलता र चालकताले रासायनिक र जैविक सेन्सरहरूको लागि ग्राफिनलाई आदर्श बनाउँछ.

कम्पोजिटहरू: प्लास्टिक जस्ता सुदृढीकरण सामग्री, धातुहरू, र बल र चालकता बृद्धि गर्न कंक्रीट.

पानी निस्पंदन: यसको परमाणु पातलो संरचनाले प्रदूषकहरूको कुशल निस्पंदन सक्षम गर्दछ, लवण सहित, भाइरसहरू, र ब्याक्टेरिया.

औषधी: सम्भावित प्रयोगहरूमा यसको जैव अनुकूलता र अद्वितीय गुणहरूको कारण औषधि वितरण प्रणाली र बायो-सेन्सरहरू समावेश छन्.

कम्पनी प्रोफाइल

Graphite-Corp एक विश्वसनीय वैश्विक रासायनिक सामग्री आपूर्तिकर्ता हो & सुपर उच्च-गुणस्तर ग्रेफाइट पाउडर र ग्रेफिन उत्पादनहरू प्रदान गर्न 12-वर्ष भन्दा बढी अनुभव भएको निर्माता.

कम्पनीसँग व्यावसायिक प्राविधिक विभाग र गुणस्तर पर्यवेक्षण विभाग छ, एक सुसज्जित प्रयोगशाला, र उन्नत परीक्षण उपकरण र बिक्री पछि ग्राहक सेवा केन्द्र संग सुसज्जित.

यदि तपाइँ उच्च गुणस्तरको ग्रेफाइट पाउडर र सापेक्ष उत्पादनहरू खोज्दै हुनुहुन्छ भने, कृपया हामीलाई सम्पर्क गर्न नहिचकिचाउनुहोस् वा सोधपुछ पठाउन आवश्यक उत्पादनहरूमा क्लिक गर्नुहोस्.

भुक्तानी विधिहरू

L/C, T/T, वेस्टर्न युनियन, Paypal, क्रेडिट कार्ड आदि.

ढुवानी

यो समुद्र द्वारा पठाउन सकिन्छ, हावा द्वारा, वा भुक्तान रसिदको रूपमा चाँडै ASAP प्रकट गरेर.

FAQs of LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine

प्र: Is LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine safe for the environment and human health?
ए: ग्राफिनको वातावरणीय र स्वास्थ्य प्रभावहरूमा अनुसन्धान जारी छ. जबकि ग्राफिन आफैलाई अपेक्षाकृत निष्क्रिय मानिन्छ, ग्राफिन अक्साइड र अन्य डेरिभेटिभहरूको सम्भावित विषाक्तताको बारेमा चिन्ताहरू अवस्थित छन्, विशेष गरी जलीय इकोसिस्टममा.

प्र: How is LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine produced?
ए: ग्राफिन धेरै विधिहरू मार्फत उत्पादन गर्न सकिन्छ, मेकानिकल एक्सफोलिएशन सहित (टाँस्ने टेप प्रयोग गरेर ग्रेफाइटबाट तहहरू पिल गर्दै), रासायनिक वाष्प निक्षेप (CVD), र ग्राफिन अक्साइडको रासायनिक कमी.

प्र: Why is LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine not yet widely used in commercial products?
ए: स्केलेबल र लागत-प्रभावी ढंगले उच्च-गुणस्तरको ग्राफिन उत्पादन गर्ने चुनौतीहरूले यसको व्यापक अपनत्वमा बाधा पुर्‍याएको छ।. साथै, अवस्थित निर्माण प्रक्रियाहरूमा ग्राफिनलाई एकीकृत गर्न थप प्राविधिक प्रगतिहरू आवश्यक छ.

प्र: Can LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine be used to make stronger and lighter materials?
ए: बिल्कुल, कम्पोजिट सामग्रीहरूमा ग्राफिनको थपले वजन घटाउँदा तिनीहरूको बल र कठोरतामा उल्लेखनीय सुधार गर्दछ, तिनीहरूलाई एयरोस्पेसको लागि आदर्श बनाउँदै, मोटर वाहन, र खेलकुद उपकरण.

प्र: Does LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine have any limitations?
ए: जबकि ग्राफिनमा उत्कृष्ट गुणहरू छन्, यसको पूर्ण क्षमताको उपयोगमा चुनौतीहरू बाँकी छन्, जस्तै उच्च-गुणस्तरको ठूलो उत्पादन हासिल गर्ने, कम्पोजिटहरूमा पुन: स्ट्याक गर्ने प्रवृत्तिलाई व्यवस्थापन गर्दै, र सम्भावित स्वास्थ्य र वातावरणीय सरोकारहरूलाई सम्बोधन गर्दै.

(LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine)

(LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine)