LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine

The parameters for the LAB 1200-degree multi heating zones vacuum deposit furnace and chemical vapour deposition of graphene cvd machine can vary depending on several factors, such as the specific specifications of the machine, the operating conditions, and the desired materials used in the production process.

(LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine)

Overview of LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine

ग्राफीन हे षटकोनी जाळीमध्ये रचलेला कार्बन अणूंचा एक थर आहे, उल्लेखनीय गुणधर्मांसह द्विमितीय सामग्री तयार करणे. मध्ये शोधून काढले 2004, तेव्हापासून त्याच्या सामर्थ्याच्या अद्वितीय संयोजनामुळे वैज्ञानिक समुदाय आणि उद्योगांना सारखेच मोहित केले आहे, चालकता, आणि लवचिकता. ग्राफीन मूलत: एकच आहे, ग्रेफाइटची सपाट शीट, पेन्सिल लीडमध्ये सापडलेली सामग्री, परंतु एकाच अणू थरात विलग केल्यावर त्याचे गुणधर्म खूप वेगळे असतात.

Features of LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine

अतुलनीय ताकद: ग्राफीन ही सर्वात मजबूत ज्ञात सामग्री आहे, आजूबाजूच्या तन्य शक्तीसह 130 गिगापास्कल्स, ओव्हरच्या घटकाने स्टीलला मागे टाकणे 100.

अत्यंत लवचिकता: त्याची ताकद असूनही, ग्राफीन अत्यंत लवचिक आहे आणि वाकले जाऊ शकते, फिरवलेला, किंवा तोडल्याशिवाय गुंडाळले.

अपवादात्मक विद्युत चालकता: हे विलक्षण चांगले वीज चालवते, प्रकाशाच्या वेगाच्या जवळ जाणाऱ्या वेगात इलेक्ट्रॉन्ससह, ते इलेक्ट्रॉनिक्ससाठी आदर्श बनवत आहे.

थर्मल चालकता: ग्राफीन देखील एक उत्कृष्ट थर्मल कंडक्टर आहे, उष्णता कार्यक्षमतेने पसरवणे, उष्णता व्यवस्थापन अनुप्रयोगांमध्ये उपयुक्त.

पारदर्शकता: ते जवळजवळ पारदर्शक आहे, फक्त शोषून घेणारा 2.3% प्रकाशाचा, जे, त्याच्या चालकतेसह, ते डिस्प्लेमधील पारदर्शक इलेक्ट्रोडसाठी योग्य बनवते.

रासायनिकदृष्ट्या जड: ग्राफीन गंजण्यास अत्यंत प्रतिरोधक आहे आणि रासायनिक परिस्थितींच्या विस्तृत श्रेणीमध्ये स्थिर आहे.

(LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine)

Parameter of LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine

The parameters for the LAB 1200-degree multi heating zones vacuum deposit furnace and chemical vapour deposition of graphene cvd machine can vary depending on several factors, such as the specific specifications of the machine, the operating conditions, and the desired materials used in the production process.

उदाहरणार्थ, if you have access to a laboratory with different types of gases that can be mixed together during the application process, you may need to consider the type of gas that will be used and how it ised. Similarly, the type of material that needs to be deposited (graphene or any other chemically reactive substance) and the intended application (e.g., manufacturing a plastic part) may also affect the optimal parameters of the experiment.

याव्यतिरिक्त, the operating conditions, such as the temperature, दबाव, and flow rate, will also play a role in determining the optimal parameters. You should also consider the power source and the initial size and capacity of the vacuum deposit furnace to ensure that it can handle the required volume of materials being deposited.

एकूणच, it’s important to thoroughly plan the experimental design before performing any, including choosing the appropriate parameters for the lab and the type of samples being tested. असे करून, you can ensure that your results are accurate and reliable.

(LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine)

Applications of LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine

इलेक्ट्रॉनिक्स: ट्रान्झिस्टर मध्ये, टचस्क्रीन, आणि त्याच्या चालकता आणि लवचिकतेमुळे लवचिक इलेक्ट्रॉनिक्स, डिव्हाइस डिझाइनमध्ये संभाव्य क्रांती.

ऊर्जा साठवण: बॅटरी आणि सुपरकॅपॅसिटरमध्ये इलेक्ट्रोड म्हणून, ऊर्जा साठवण क्षमता आणि चार्जिंग दर सुधारणे.

सेन्सर्स: उच्च संवेदनशीलता आणि चालकता ग्रेफिनला रासायनिक आणि जैविक सेन्सर्ससाठी आदर्श बनवते.

संमिश्र: प्लॅस्टिकसारख्या मजबुतीकरण सामग्री, धातू, आणि सामर्थ्य आणि चालकता वाढविण्यासाठी ठोस.

पाणी गाळण्याची प्रक्रिया किंवा पध्दती: त्याची अणुदृष्ट्या पातळ रचना दूषित पदार्थांचे कार्यक्षम गाळणे सक्षम करते, क्षारांसह, व्हायरस, आणि बॅक्टेरिया.

औषध: संभाव्य वापरांमध्ये औषध वितरण प्रणाली आणि बायो-सेन्सर्सचा समावेश आहे कारण त्याच्या जैव-अनुकूलता आणि अद्वितीय गुणधर्मांमुळे.

कंपनी प्रोफाइल

Graphite-Corp एक विश्वसनीय जागतिक रासायनिक सामग्री पुरवठादार आहे & सुपर उच्च-गुणवत्तेची ग्रेफाइट पावडर आणि ग्राफीन उत्पादने प्रदान करण्याचा 12 वर्षांपेक्षा जास्त अनुभव असलेला निर्माता.

कंपनीकडे व्यावसायिक तांत्रिक विभाग आणि गुणवत्ता पर्यवेक्षण विभाग आहे, एक सुसज्ज प्रयोगशाळा, आणि प्रगत चाचणी उपकरणे आणि विक्री-पश्चात ग्राहक सेवा केंद्रासह सुसज्ज.

आपण उच्च-गुणवत्तेचे ग्रेफाइट पावडर आणि संबंधित उत्पादने शोधत असल्यास, कृपया आमच्याशी संपर्क साधा किंवा चौकशी पाठवण्यासाठी आवश्यक उत्पादनांवर क्लिक करा.

पेमेंट पद्धती

L/C, T/T, वेस्टर्न युनियन, पेपल, क्रेडिट कार्ड इ.

शिपमेंट

ते समुद्रमार्गे पाठवले जाऊ शकते, हवेने, किंवा परतफेडीची पावती लवकरात लवकर उघड करून.

FAQs of LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine

प्र: Is LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine safe for the environment and human health?
ए: ग्राफीनच्या पर्यावरणीय आणि आरोग्यावरील परिणामांवर संशोधन चालू आहे. ग्रेफिन स्वतः तुलनेने निष्क्रिय मानले जाते, ग्राफीन ऑक्साईड आणि इतर डेरिव्हेटिव्ह्जच्या संभाव्य विषारीपणाबद्दल चिंता आहेत, विशेषतः जलीय परिसंस्थेमध्ये.

प्र: How is LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine produced?
ए: ग्राफीन अनेक पद्धतींनी तयार करता येते, यांत्रिक एक्सफोलिएशनसह (चिकट टेप वापरून ग्रेफाइटचे थर सोलणे), रासायनिक बाष्प जमा (CVD), आणि ग्राफीन ऑक्साईडची रासायनिक घट.

प्र: Why is LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine not yet widely used in commercial products?
ए: स्केलेबल आणि किफायतशीर पद्धतीने उच्च-गुणवत्तेच्या ग्राफीनचे उत्पादन करण्याच्या आव्हानांमुळे त्याचा व्यापक अवलंब करण्यात अडथळा निर्माण झाला आहे.. याव्यतिरिक्त, विद्यमान उत्पादन प्रक्रियेमध्ये ग्राफीन समाकलित करण्यासाठी पुढील तांत्रिक प्रगती आवश्यक आहे.

प्र: Can LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine be used to make stronger and lighter materials?
ए: एकदम, मिश्रित पदार्थांमध्ये ग्राफीनची भर पडल्याने वजन कमी करताना त्यांची ताकद आणि कडकपणा लक्षणीयरीत्या सुधारतो, त्यांना एरोस्पेससाठी आदर्श बनवणे, ऑटोमोटिव्ह, आणि क्रीडा उपकरणे.

प्र: Does LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine have any limitations?
ए: ग्राफीनमध्ये उत्कृष्ट गुणधर्म आहेत, त्याच्या पूर्ण क्षमतेचा उपयोग करण्यात आव्हाने कायम आहेत, जसे की उच्च दर्जाचे मोठ्या प्रमाणात उत्पादन मिळवणे, कंपोझिटमध्ये रीस्टॅक करण्याची त्याची प्रवृत्ती व्यवस्थापित करणे, आणि संभाव्य आरोग्य आणि पर्यावरणविषयक समस्यांचे निराकरण करणे.

(LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine)

(LAB 1200 degree multi heating zones vacuum deposit furnace/chemical vapour deposition of graphene cvd machine)